Mesin Litografi Buatan China Bukan Ancaman Terbesar bagi ASML, Analis: Regulasi AS Lebih Menentukan
Baca dalam 60 detik
- Saham ASML sempat terpukul setelah laporan China memproduksi mesin DUV immersion sendiri, tetapi analis menilai dampaknya masih terbatas.
- Ancaman yang lebih serius justru datang dari RUU Match Act di AS yang bisa memutus rantai pemeliharaan mesin ASML di China.
- Kemandirian peralatan semikonduktor China meningkat, namun belum ada tanda akan muncul 'ASML versi China' dalam waktu dekat.

Laporan tentang China yang mulai memproduksi mesin litografi deep-ultraviolet (DUV) immersion buatan sendiri sempat membuat saham ASML, raksasa peralatan semikonduktor asal Belanda, terperosok lebih dari 8 persen di bursa AS pada Senin (27/7) sebelum ditutup melemah 5,8 persen. Namun, para analis menilai bahwa gebrakan teknologi Beijing itu bukanlah ancaman terbesar bagi dominasi ASML. Justru, regulasi ketat yang tengah dirancang di Washington berpotensi memberi dampak lebih jauh terhadap bisnis perusahaan tersebut.
Menurut laporan The Information yang menjadi pemicu aksi jual, China melalui perusahaan milik negara di Shanghai telah mulai merakit mesin DUV immersion. Target produksi disebutkan sekitar lima unit pada tahun ini dan meningkat menjadi 20 unit pada 2027. Rencananya, mesin-mesin pertama akan dipasok ke tiga raksasa chip domestik: SMIC, Hua Hong Semiconductor, dan ChangXin Memory Technologies (CXMT). Kabar ini sontak mengerek harga saham sejumlah emiten terkait litografi di bursa daratan China pada Selasa, dengan beberapa di antaranya menyentuh batas atas harian.
Kendati demikian, para pengamat industri mengingatkan agar tidak terburu-buru merayakan kabar tersebut. Paul Triolo, mitra sekaligus pimpinan kebijakan teknologi di DGA-Albright Stonebridge Group, menegaskan bahwa memproduksi mesin hanyalah langkah awal. "Mesin DUV immersion yang layak secara komersial dan mampu beroperasi 24 jam sehari, tujuh hari seminggu, selama setahun penuh adalah tantangan yang sangat berat," ujarnya. Senada, analis Jefferies, William Beavington, mengingatkan bahwa klaim-klaim sebelumnya tentang kemajuan China di bidang ini kerap tidak terbukti. Menurutnya, kapabilitas domestik China baru akan meningkat signifikan jika mesin buatan lokal benar-benar dipakai dalam produksi massal oleh perusahaan seperti SMIC dan CXMT.
Untuk saat ini, pabrik chip di China masih sangat bergantung pada peralatan impor. Data Bank of America menunjukkan impor peralatan semikonduktor ke Provinsi Anhuiโmarkas CXMTโmencapai US$226 juta pada Maret lalu, lebih dari dua kali lipat rata-rata bulanan semester kedua tahun sebelumnya. Dari jumlah itu, sistem litografi menyumbang 57 persen. Beavington memperkirakan China akan terus membeli mesin ASML selama masih bisa, mengingat kualitasnya yang jauh lebih unggul. Namun, ia juga mencatat bahwa jika mesin lokal terbukti andal, adopsi bisa berlangsung cepat.
Ancaman yang lebih nyata bagi ASML justru datang dari Rancangan Undang-Undang Match Act (Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act) di Amerika Serikat. RUU yang telah disetujui Komite Luar Negeri DPR pada April lalu namun belum masuk voting penuh ini akan melarang penjualan sistem DUV immersion ke negara-negara yang dianggap "mengkhawatirkan" serta memberlakukan pembatasan ketat pada layanan dan dukungan teknis di fasilitas manufaktur semikonduktor utama. Jika RUU ini disahkan, ASML bisa dipaksa menarik para insinyurnya dari China. Triolo menilai langkah tersebut justru akan menjadi "dorongan besar" bagi upaya China mengembangkan mesin litografi sendiri. "Memutus akses China ke tenaga ahli yang memelihara peralatan asing akan memaksa mereka mempercepat adopsi peralatan domestik, yang pada gilirannya mempercepat pengembangannya," jelasnya.
Data Bernstein Research menunjukkan pembatasan yang sudah ada terhadap pemasok AS memang telah mendongkrak lokalisasi di segmen peralatan lain. Tingkat swasembada China dalam peralatan fabrikasi wafer naik dari 16 persen pada 2024 menjadi 21 persen tahun lalu. Pasokan domestik tumbuh 67 persen untuk peralatan deposisi dan 37 persen untuk dry etching, dengan tingkat lokalisasi masing-masing mencapai 27 persen dan 31 persen. Namun, Triolo menilai proyek DUV China tidak akan melahirkan perusahaan tunggal yang menyerupai "ASML versi China". Yang terlihat justru program integrasi sistem yang diarahkan negara, dengan Shanghai Yuliangsheng Technology sebagai kendaraan proyek, SiCarrier sebagai koordinator strategis yang terhubung dengan ekosistem Huawei, dan SMIC sebagai platform kualifikasi. Sejumlah perusahaan lain seperti Shanghai Micro Electronics Equipment, Beijing Keyi Hongyuan Optoelectronics, Beijing U-Precision Tech, dan Amies Technology berpotensi menjadi pemasok subsistem penting.
Struktur semacam itu, menurut Triolo, sebenarnya meniru model ASML yang berperan sebagai koordinator jaringan pemasok spesialis ketimbang memproduksi semua komponen sendiri. Meski demikian, DUV immersion tetap menjadi teknologi litografi tercanggih yang bisa diakses China saat ini, karena mesin berbasis extreme ultraviolet (EUV) masih dilarang diekspor. Pertanyaannya, akankah AS dan sekutunya mampu menahan laju kemandirian China tanpa memicu akselerasi yang justru tidak mereka inginkan? Bagi Indonesia, dinamika ini menjadi pengingat bahwa ketahanan rantai pasok teknologi tinggi adalah isu strategis yang tidak bisa diabaikan, terutama di tengah upaya membangun ekosistem semikonduktor nasional.



